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半導体プロセス技術   貸出可

丹呉浩侑／編 -- 培風館 -- １９９８．１１ -- 549.8  (半導体工学シリ－ズ ９)

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所蔵場所 請求記号 資料コード 資料区分 帯出区分 状態
書庫５門 /549/Ｔａ８６/ 0010098149624 一般図書 書架

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タイトル１ 半導体プロセス技術 
著者１ 丹呉浩侑 ／編  
出版年 １９９８．１１
出版者 培風館
シリーズ名 半導体工学シリ－ズ  ９
一般件名 半導体
ページ数 ３２５ｐ
大きさ ２２ｃｍ
ISBN 4-563-03298-0
NDC分類(10版) 549.8
内容紹介 現在のＬＳＩの基幹を成すＳｉ　ＭＯＳ　ＬＳＩプロセスを中心に記述。ＭＯＳトランジスタの基本知識等を概観した後、リソグラフィ、不純物導入技術などからプロセス評価技術まで、個々の要素プロセスの内容を体系的に詳述。

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