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薄膜化技術  第３版 貸出可

和佐清孝／著 -- 共立出版 -- ２００２．６ -- 549.8

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所蔵場所 請求記号 資料コード 資料区分 帯出区分 状態
書庫５門 /549/Ｗ４１/ 0010002097653 一般図書 書架

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タイトル１ 薄膜化技術 
著者１ 和佐清孝 ／著, 早川茂 ／著  
版表示 第３版
出版年 ２００２．６
出版者 共立出版
一般件名 薄膜
ページ数 ３１６ｐ
大きさ ２２ｃｍ
ISBN 4-320-08613-9
NDC分類(10版) 549.8
内容紹介 原子スケ－ルでの材料技術を特徴としている薄膜は、ナノスケ－ル素材・デバイス形成の要素技術であり、エレクトロニクスや環境技術分野で重要である。基礎科学的視点を追加し、最新のデ－タを増補した、９２年刊に次ぐ第３版。

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著者紹介

著者紹介１－１ 横浜市立大学理学部客員教授。共著に「強誘電性と高温超伝導」他。
著者紹介１－２ 平成１３年没。イオン工学センタ－相談役等をつとめた。共著に「薄膜技術の新潮流」他。