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    石川秀樹
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クラスタ－イオンビ－ム基礎と応用   貸出可

山田公／編著 -- 日刊工業新聞社 -- ２００６．１０ -- 549.1

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所蔵場所 請求記号 資料コード 資料区分 帯出区分 状態
書庫５門 /549/Ｙ１９/ 0010006148518 一般図書 書架

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タイトル１ クラスタ－イオンビ－ム基礎と応用 
副タイトル１ 次世代ナノ加工プロセス技術
著者１ 山田公 ／編著  
出版年 ２００６．１０
出版者 日刊工業新聞社
一般件名 イオンビ－ム
ページ数 １１，２２３ｐ
大きさ ２１ｃｍ
ISBN 4-526-05765-7
NDC分類(10版) 549.1
内容紹介 クラスタ－イオンビ－ム技術は、数百から数千の原子の塊（クラスタ－）からなるイオンを高速で、固体の表面に衝突させて行う表面加工技術。その基礎現象とプロセス技術の応用例をふんだんに盛り込んだ一冊。

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著者紹介

著者紹介１－１ 京都大学名誉教授。兵庫県立大学高度産業科学技術研究所客員教授。