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    飯田正美
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入門フォトマスク技術   貸出可

田邉功／著 -- 工業調査会 -- ２００６．１２ -- 549.7

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所蔵場所 請求記号 資料コード 資料区分 帯出区分 状態
書庫５門 /549/Ｔａ８３/ 0010007185516 一般図書 書架

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タイトル１ 入門フォトマスク技術 
副タイトル１ ＬＳＩ，ＦＰＤ，ＰＷＢ，ＭＥＭＳのためのフォトマスク
著者１ 田邉功 ／著, 竹花洋一 ／著, 法元盛久 ／著  
出版年 ２００６．１２
出版者 工業調査会
一般件名 リソグラフィ－
ページ数 ３２３ｐ
大きさ ２１ｃｍ
ISBN 4-7693-1259-8
NDC分類(10版) 549.7
内容紹介 半導体ならびに電子部品分野の技術に関係している方々を対象に、マスク技術に関する基本的な項目、内容を網羅した参考書。半導体デバイスのみならず、ＦＰＤとＰＷＢ、ならびにＭＥＭＳで使用されるマスクについても記述。

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著者紹介

著者紹介１－１ 千葉大学工学部工業化学科写真映画専攻卒業。（有）ＩＴコンサルティング代表取締役社長。
著者紹介１－２ 大阪大学大学院理学研究科無機・物理化学専攻卒業。ＭＥＴ研究所所長。