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はじめての半導体プロセス   貸出可

前田和夫／著 -- 技術評論社 -- ２０１１．８ -- 549.8  (現場の即戦力 )

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所蔵場所 請求記号 資料コード 資料区分 帯出区分 状態
科学産業 /549/Ｍａ２６/ 0010011359362 一般図書 書架

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タイトル１ はじめての半導体プロセス 
著者１ 前田和夫 ／著  
出版年 ２０１１．８
出版者 技術評論社
シリーズ名 現場の即戦力  
一般件名 半導体
ページ数 １２，２９１ｐ
大きさ ２１ｃｍ
ISBN 4-7741-4749-9
NDC分類(10版) 549.8
内容紹介 半導体デバイスの種類と構造、基本プロセス技術といった基礎知識から、ＶＬＳＩデバイスの最先端分野の現状と課題まで、半導体製造技術のなかの半導体プロセスについて幅広く解説した入門書。

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著者紹介

著者紹介１－１ 横浜国立大学工学部化学工学科卒業。工学博士。（株）半導体プロセス研究所設立。米国ＳＥＭＩ（半導体装置材料協会）よりＳＥＭＭＹ賞授与。２００８年逝去。